엘립소미트리(Ellipsometry) ‘Ellipsometry’라는 용어는 ‘ellips(타원)’과 ‘metry(측정기술에 해당하는 접미사)’의 합성어로써 이는 특정 편광 상태를 지니고 시편에 입사한 빛이 반사된 후에는 주로 그림과 같이 타원편광으로 변하고 그 편광상태의 변화를 분석하여 시편이 지닌 정보를 찾아내는 기술이다.
그림. 엘립소미트리에서 입사한 빛(선편광)과 반사한 빛(타원편광)의 상태
Figure. Incidence and reflective light states in ellipsometry
Ellipsometry는 측정이 간편하며 초박막과 미세구조의 분석도 용이하다. 또한 두 편광상태의 반사를 측정하기 때문에 두개의 정보, 즉, 광학 상수인 굴절률(refractive index, n)과 소광계수(extinctioncoefficient, k)를 동시에 결정할 수 있다. 이러한 특성으로 물리, 화학, 반도체, 재료 및 여러 분야에 있어서 다양한 용도로 사용이 되고 있다.
[출처] 엘립소미트리(Ellipsometry)|작성자 제이벡 Jvac